Промышленная Сибирь Ярмарка Сибири Промышленность СФО Электронные торги НОУ-ХАУ Электронные магазины Карта сайта
 
Ника
Ника
 

Поиск патентов

Как искать?
Реферат
Название
Публикация
Регистрационный номер
Имя заявителя
Имя изобретателя
Имя патентообладателя

    





Оформить заказ и задать интересующие Вас вопросы Вы можете напрямую c 6-00 до 14-30 по московскому времени кроме сб, вс. whatsapp 8-950-950-9888

На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента

Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»


ИНТЕГРАЛЬНЫЙ ЛОГИЧЕСКИЙ ЭЛЕМЕНТ

Номер публикации патента: 2079986

Вид документа: C1 
Страна публикации: RU 
Рег. номер заявки: 94005726 
  Сделать заказПолучить полное описание патента

Редакция МПК: 
Основные коды МПК: H05K001/00    
Аналоги изобретения: Эйрис Р. Проектирование СБИС. Метод кремниевой компиляции/ Пер. с англ.-М.: Гл.ред.физ.-мат.лит., 1988, с.40. рис.1.14. 2.Bern Hoeffliuger, Sie I. Liu, and Braui slan Vajdic, A Three - Dimentional CMOS Design Metodology, IEEE Trausactions of Electron Devices, vol. ED-31, N 2, 1984, fig.2. 

Имя заявителя: Таганрогский государственный радиотехнический университет 
Изобретатели: Коноплев Б.Г.
Рындин Е.А. 
Патентообладатели: Таганрогский государственный радиотехнический университет 

Реферат


Изобретение относится к области вычислительной техники и интегральной электроники, а более конкретно - к интегральным логическим элементам БИС. Сущность изобретения: интегральный логический элемент, содержащий полупроводниковую подложку первого типа проводимости с расположенными в ней сток-истоковыми областями транзисторов второго типа проводимости, область рекристаллизованного кремния второго типа проводимости, расположенную над слоем разделительного диэлектрика и содержащую сток-истоковые области транзисторов первого типа проводимости, металлическую шину питания, соединенную с истоковыми областями транзисторов первого типа проводимости, металлическую шину нулевого потенциала, расположенную над истоковой областью транзистора второго типа проводимости и соединенную с ней, а также с полупроводниковой подложкой первого типа проводимости, выходную металлическую шину, расположенную над областями элемента и соединенную со стоковыми областями транзисторов первого типа проводимости и стоковой областью транзистора второго типа проводимости, введены две входные зоны, содержащие два транзистора второго типа проводимости, два транзистора первого типа проводимости, расположенные в области рекристаллизованного кремния второго типа проводимости над транзисторами второго типа проводимости, две входные поликремнивые шины, являющиеся затворами транзисторов первого и второго типов проводимости и выполненные в виде буквы С, выходная зона, содержащая выходную поликремниевую шину, которая соединена с выходной металлической шиной, зона транзита, содержащая транзитную поликремниевую шину, причем, расположенные между шинами питания и нулевого потенциала входные, выходная и транзитная зоны взаимозаменяемы вдоль логического элемента. 1 ил., 1 табл.


Дирекция сайта "Промышленная Сибирь"
Россия, г.Омск, ул.Учебная, 199-Б, к.408А
Сайт открыт 01.11.2000
© 2000-2018 Промышленная Сибирь
Разработка дизайна сайта:
Дизайн-студия "RayStudio"