|
На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента
Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»
| СПОСОБ ФОРМИРОВАНИЯ СТРУКТУР В МИКРОЛИТОГРАФИИ |  |
Номер публикации патента: 2072644 |  |
| Редакция МПК: | 6 | | Основные коды МПК: | H05K003/06 | | Аналоги изобретения: | 1.В.В.Мартынов, Т.Е.Базарова Литографические процессы, М., "Высшая школа", 1990, стр.91-97. 2. У.Моро Микролитография, М. "Мир", 1990, стр.747-748. |
| Имя заявителя: | Институт проблем микроэлектроники и особочистых материалов РАН | | Изобретатели: | Кудряшов В.А. | | Патентообладатели: | Институт проблем микроэлектроники и особочистых материалов РАН |
Реферат | |
Изобретение относится к области микроэлектроники и может использован при формировании структур методом обратной литографии. Сущность изобретения: на подложку наносят позитивный электронорезист проводят экспонирование рисунка, проявление, наносят дополнительный слой материала и удаляют резист, а после проявления облучают сформированные в резисте элементы пучком электронов с энергией 1-5 КэВ дозой, равной 2-10 чувствительностям резиста, после чего удаление резиста проводят на глубину облученного слоя проявлением.
|
Поиск патентов
Получить полное описание патента