|
На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента
Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»
| ПОДЛОЖКА МИКРОСХЕМЫ |  |
Номер публикации патента: 2012171 |  |
| Имя заявителя: | Научно-исследовательский электромеханический институт | | Изобретатели: | Гвоздев В.В.
Врублевский И.А. | | Патентообладатели: | Научно-исследовательский электромеханический институт |
Реферат | |
Использование: технология изготовления гибридных интегральных микросхем в микроэлектронике. Сущность изобретения: на экранной стороне основания по его периметру сформирован элемент жесткости в виде рамки из пористого оксида алюминия, ширина которой определяется заданной стрелой прогиба и связана с ней по формуле =(l-2b)2, где - коэффициент, определяемый термомеханическими свойствами алюминия и оксида алюминия и зависящий от толщины основания и слоя оксида алюминия; l - максимальный линейный раз
|
Поиск патентов
Получить полное описание патента