|
На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента
Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»
| СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ МАСОК НА ОСНОВЕ ПОЛИМЕРНЫХ ПЛЕНОК |  |
Номер публикации патента: 2091992 |  |
| Редакция МПК: | 6 | | Основные коды МПК: | H05K003/00 | | Аналоги изобретения: | 1. Моро Д.У. Микролитография. - М.: Мир, 1990, с. 466. 2. Валиев К.А. Физика субмикронной литографии. - М.: Наука, ГРФМЛ, 1990, с. 528. |
| Имя заявителя: | Научно-исследовательский институт физической оптики и оптики лазеров, информационных оптических систем - Головной институт Всероссийского научного центра "ГОИ им.С.И.Вавилова" | | Изобретатели: | Дымшиц Ю.И.
Ложкин А.Ю. | | Патентообладатели: | Научно-исследовательский институт физической оптики и оптики лазеров информационных оптических систем - Головной институт Всероссийского научного центра "ГОИ им.С.И.Вавилова" |
Реферат | |
Изобретение относится к технологии микроэлектронных устройств. Сущность изобретения: полимерную резистивную пленку локально облучают потоками излучения или частиц с последующим травлением. Пленку в процессе ее изготовления нагревают до температуры, находящейся в области высокоэластической деформации полимера между температурой стеклования и температурой текучести, и растягивают. Растянутую пленку охлаждают до температуры, меньшей температуры стеклования, и подвергают локальному облучению потоками излучения или частиц. Затем растяжение снимают, нагревая обученную пленку до температуры, превосходящей температуру стеклования, но не превышающей температуру текучести, охлаждают и подвергают химической обработке, вытравливая рисунок. Операции химической обработки и повторного нагревания можно производить в обратной последовательности или одновременно. Благодаря эффекту "памяти формы" полимерная пленка после повторного нагрева возвращается в исходное, не растянутое состояние, которому и соответствуют размеры вытравливаемых рисунков и толщины линий. 2 з. п. ф-лы.
|
Поиск патентов
Получить полное описание патента