Изобретение относится к плазмотронам для плазменной обработки изделий. Плазмотрон для плазменной обработки изделий содержит центральный электрод 2, коаксиальный ему цилиндрический наружный электрод 1, электрический изолятор 3 и источник питания. Изолятор расположен коаксиально между наружным и центральным электродами. Между центральным электродом и изолятором образован разрядный канал, имеющий дальний конец и ближний конец. На дальнем конце разрядного канала расположено подводящее отверстие 6 для подачи плазмообразующего газа в разрядный канал. На ближнем конце изолятор выступает за пределы наружной поверхности наружного электрода в виде радиально расположенного кольца 20. В другом варианте плазмотрон может содержать два наружных электрода и два изолятора, которые расположены по обеим сторонам центрального электрода и параллельны ему. Способ получения плазменной струи включает использование одного из указанных вариантов плазмотрона, подачу плазменного газа через подводящее отверстие, подачу химически активного соединения через подводящее отверстие 6 и/или через центральный электрод 1 и создание между центральным 1 и наружным 2 электродами напряжения величиной от 1 до 100 кВ. Изобретение позволяет повысить эффективность работы плазмотрона. 4 н. и 11 з.п. ф-лы, 5 ил., 2 табл.
Поиск патентов
Получить полное описание патента