|
На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента
Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»
| УСТРОЙСТВО ДЛЯ СВЧ - ПЛАЗМЕННОЙ ОБРАБОТКИ МАТЕРИАЛОВ |  |
Номер публикации патента: 2157061 |  |
| Редакция МПК: | 7 | | Основные коды МПК: | H05H001/30 H01L021/3065 H05B006/64 | | Аналоги изобретения: | ПОЛАК Л.С. и др. Теоретическая и прикладная плазмохимия. - М.: Наука, 1975, с.21. RU 2082284 C1, 20.06.1997. RU 2120681 C1, 20.10.1998. EP 0104109 A1, 28.03.1984. FR 2552964 A1, 05.04.1985. FR 2480552 A1, 16.10.1981. FR 2653633 A1, 26.04.1991. |
| Имя заявителя: | Институт проблем технологии микроэлектроники и особочистых материалов РАН | | Изобретатели: | Редькин С.В.
Аристов В.В. | | Патентообладатели: | Институт проблем технологии микроэлектроники и особочистых материалов РАН |
Реферат | |
Устройство для СВЧ-плазменной обработки материалов относится к области плазмохимии и может быть использовано в микроэлектронной промышленности в производстве интегральных схем и дискретных полупроводниковых приборов при травлении и осаждении материалов и выращивании собственного диэлектрика на полупроводниках и металлах.
|
Поиск патентов
Получить полное описание патента