На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента

Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»

Вернуться к списку

ИМПУЛЬСНАЯ ПЛАЗМЕННАЯ УСТАНОВКА

Номер публикации патента: 2114520

Вид документа:  C1  Страна публикации:  RU  Рег. номер заявки:  96119512		Получить полное описание патента

Реферат

Изобретение относится к плазменной технике. Импульсная плазменная установка содержит два высоковольтных электрода, источник питания вспомогательной дуги, генератор импульсного тока, отражающую стенку из диэлектрического материала и обмотку магнитного дутья, при этом отрицательный электрод выполнен подвижным и жестко связан с якорем электромагнита, обмотка которого включена между указанным электродом и отрицательным полюсом источника питания вспомогательной дуги, причем с электродом она связана гибким проводом. Растяжение . дуги осуществляется за счет раздвижения электродов посредством электромагнита. При этом опорные точки дуги располагаются на концах электродов неподвижно, а паровая катодная струя, обтекая столб вспомогательной дуги, дополнительно стабилизирует ее электрофизические характеристики. По достижении вспомогательной дугой заданных параметров запускается источник питания обмотки магнитного дутья м между электродами инициируется высоковольтный разряд. Обмотка магнитного дутья размещена непосредственно за отражающей стенкой, в результате чего сгусток плазмы притягивается к холодной отражающей стенке и как бы раскатывается по ее поверхности в тонкую пленку. При этом существенно снижается экранирующее действие частиц плазмы и увеличивается излучающая поверхность, что обусловливает высокую интенсивность излучения. 1 ил.

Вернуться к списку