На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента

Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»

Вернуться к списку

ВЫСОКОЧАСТОТНЫЙ ЕМКОСТНЫЙ ПЛАЗМОТРОН

Номер публикации патента: 2027324

Вид документа:  C1  Страна публикации:  RU  Рег. номер заявки:  93010304		Получить полное описание патента

Реферат

Изобретение относится к технике электрических разрядов в газе, а именно к конструкции высокочастотных плазмотронов, и может быть использовано в плазмохимии, в процессах тепловой и ионной обработки диэлектрических и металлических материалов и изделий (упрочнение поверхности металлов, плавление, сварка, резка и др.), в диагностике плазмы. Техническим результатом, который позволяет достичь изобретение, является расширение технологических возможностей высокочастотных емкостных (ВЧЕ) плазмотронов за счет свободного доступа к участку положительного столба (дуги) разряда между электродами. Указанный результат достигается за счет того, что в ВЧЕ-плазмотроне, состоящем из диэлектрической газоразрядной камеры-трубки, системы охватывающих трубку проводящих охлаждаемых электродов, присоединяемых к источнику высокочастотного напряжения, системы подачи и вывода газа из камеры, газоразрядная камера-трубка выполнена из двух соосно размещенных участков, располагаемых с некоторым регулируемым зазором между ними так, что образуется свободное технологическое пространство, открывающее доступ к положительному столбу разряда, служащее одновременно для выхода плазмообразующего газа, причем оптимальное отношение величины зазора l к диаметру трубки d лежит в пределах 0,10 - 0,25. Высокочастотное устройство состоит из двух, охлаждаемых проточной водой, проводящих цилиндрических электродов, охватывающих камеру-трубку, которая состоит из двух соосно размещенных участков. 3 з.п. ф-лы, 2 ил.

Вернуться к списку