RU 2180472 С2, 10.03.2002. KR 20020024790 A, 01.04.2002. JP 11061388 A, 07.08.1990. KR 20020005449 A, 17.01.2002. EP 0284145 A1, 28.09.1988. EP 1020541 A2, 19.07.2000.
Имя заявителя:
Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Санкт-Петербургский государственный электротехнический университет "ЛЭТИ" им. В.И. Ульянова (Ленина)" (RU), Закрытое акционерное общество "С.Е.Д.-СПб" (RU)
Изобретатели:
Быстров Юрий Александрович (RU) Лисенков Александр Аркадьевич (RU) Нечаев Константин Сергеевич (RU) Ветров Николай Захарович (RU)
Патентообладатели:
Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Санкт-Петербургский государственный электротехнический университет "ЛЭТИ" им. В.И. Ульянова (Ленина)" (RU) Закрытое акционерное общество "С.Е.Д.-СПб" (RU)
Реферат
Изобретение относится к области вакуумно-плазменной технологии и может быть использовано для нанесения покрытий в вакууме. Технический результат: обеспечение стабильной безаварийной работы источника плазмы протяженной конструкции, повышение равномерности толщины формируемого покрытия на обрабатываемых изделиях, ускоренный выход катода в рабочий режим. В вакуумно-дуговом устройстве в электрическую цепь питания дуги включены аналоговый блок управления, коммутирующее устройство и дополнительные балластные сопротивления, величина которых соответственно определяет ток очистки и ток разогрева катода. 3 ил.
Поиск патентов
Получить полное описание патента