|
На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента
Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»
| ВАКУУМНО - ДУГОВОЙ ИСТОЧНИК ПЛАЗМЫ |  |
Номер публикации патента: 2072642 |  |
| Редакция МПК: | 6 | | Основные коды МПК: | H05H001/50 C23C014/35 | | Аналоги изобретения: | 1. Авторское свидетельство СССР N 901358, C 23C 13/12, 1982. 2. Карпов Д.А., Потехин С.Л. Способы магнитной локализации катодных пятен вакуумной дуги и конструкции электродуговых испарителей с магнитной стабилизацией. Препринт НИИЭФА им.Д.В.Ефремова. НИИЭФА П-А-0588, Л. 1982. |
| Имя заявителя: | Санкт-Петербургский государственный электротехнический университет | | Изобретатели: | Абрамов И.С.
Быстров Ю.А.
Лисенков А.А.
Павлов Б.В.
Шаронов В.Н. | | Патентообладатели: | Санкт-Петербургский государственный электротехнический университет
Акционерное общество закрытого типа "СЕД-СПб |
Реферат | |
Использование: вакуумно-плазменная технология, для нанесения покрытий на длинномерные изделия как в электронной технике, так и в производстве изделий массового потребления. Сущность изобретения: вакуумно-дуговой источник плазмы, содержащий протяженный катод с дугогасящим экраном, расположенным со стороны токоподвода к катоду, поджигающий электрод и анод, снабжен протяженной магнитной системой, ориентированной вдоль катода. Магнитная система может быть выполнена в виде петлевой обмотки или в виде постоянных магнитов. Составляющие вектора индукции магнитного поля по длине рабочей зоны катода лежат в плоскости, перпендикулярной его оси симметрии, что позволяет обеспечить равномерность толщины формируемого покрытия на длинномерные изделия и повысить коэффициент использования плазмообразующего материала. 2 з. п. ф-лы, 3 ил.
|
Поиск патентов
Получить полное описание патента