|
На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента
Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»
| ИСТОЧНИК ИЗЛУЧЕНИЯ НА ОСНОВЕ ПЛАЗМЕННОГО ФОКУСА С УЛУЧШЕННОЙ СИСТЕМОЙ ИМПУЛЬСНОГО ПИТАНИЯ |  |
Номер публикации патента: 2253194 |  |
| Редакция МПК: | 7 | | Основные коды МПК: | H05G002/00 H05H001/00 | | Аналоги изобретения: | US 5763930 А, 09.06.1998. US 5142166 A, 25.08.1992. US 5126638 А, 30.06.1992. US 5448580 A, 05.09.1995. |
| Имя заявителя: | САЙМЕР, ИНК. (US) | | Изобретатели: | ПАРТЛО Вилльям Н. (US)
ФОМЕНКОВ Игорь В. (US)
ОЛИВЕР И. Роджер (US)
НЕСС Ричард М. (US)
БИРКС Д.Л. | | Патентообладатели: | САЙМЕР
ИНК. (US) |
Реферат | |
Изобретение относится к источникам высокоэнергетического ультрафиолетового и рентгеновского излучения. Источник высокоэнергетичных фотонов содержит пару электродов (8), расположенных в вакуумной камере устройства (2) для создания плазменного пинча. Камера содержит рабочий газ, который содержит благородный буферный газ и активный газ, выбираемый так, чтобы генерировать требующуюся спектральную линию.
|
Поиск патентов
Получить полное описание патента