На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента
ВЫСОКОЧАСТОТНЫЙ ИНДУКЦИОННЫЙ ПЛАЗМОТРОН |  |
Номер публикации патента: 95104020 |  |
Вид документа: | A1 | Страна публикации: | RU | Рег. номер заявки: | 95104020 |
|
|
|
Имя заявителя: | Мазин В.И. | Изобретатели: | Мазин В.И. |
Реферат |  |
Изобретение относится к электротехнике. Целью изобретения является увеличение срока службы плазмотрона. Плазмотрон содержит цилиндрическую разрядную камеру, выполненную в виде продольных водоохлаждаемых профилированных секций, размещенных в диэлектрическом кожухе, и охватывающий кожух индуктор. Внутри разрядной камеры в ее торцевой части установлены узлы ввода основного и термозащитного газов. Узел ввода термозащитного газа выполнен в виде продольных профилированных металлических трубок, плотно прилегающих к секциям разрядной камеры, а узел ввода основного газа снабжен диафрагмой, образующей кольцевой зазор с продольными профилированными металлическими трубками. Диаметр отверстия диафрагмы выбран равным 0,15 - 0,30 внутреннего диаметра разрядной камеры, а высота кольцевого зазора выполнена меньше высоты зазора для прохода газа продольных профилированных металлических трубок.
|