|
На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента
Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»
| СПОСОБ ФОРМИРОВАНИЯ ЛАЗЕРА ГАММА - ИЗЛУЧЕНИЯ И УСТРОЙСТВО ДЛЯ ЕГО РЕАЛИЗАЦИИ, СПОСОБ ФОРМИРОВАНИЯ МОЩНОГО КОГЕРЕНТНОГО ЭЛЕКТРОННОГО ПУЧКА И УСТРОЙСТВО ДЛЯ ЕГО РЕАЛИЗАЦИИ |  |
Номер публикации патента: 2143773 |  |
| Редакция МПК: | 6 | | Основные коды МПК: | H01S004/00 H05H013/00 | | Аналоги изобретения: | EP 0436043 A1, 1991. SU 329873 A, 1974. SU 135552 A, 1961. SU 1412013 A1, 1988. US 4598415 A, 1986. US 3557370 A, 1971. US 4806871 A, 1989. |
| Имя заявителя: | Джапэн Сайенс энд Текнолоджи Корпорейшн (JP) | | Изобретатели: | Хидецугу Икегами (JP) | | Патентообладатели: | Джапэн Сайенс энд Текнолоджи Корпорейшн (JP) | | Номер конвенционной заявки: | 8-96560 | | Страна приоритета: | JP |
Реферат | |
Изобретение относится к лазерам гамма-излучения и технике формирования мощных когерентных электронных пучков. Генерация лазерного гамма-излучения осуществляется путем формирования импульсов электронного пучка определенной длительности для создания когерентного электронного пучка. Лазерное излучение направляют на когерентный электронный пучок в обратном направлении. Фотонная энергия лазерного излучения усиливается посредством когерентного обратного комптоновеного рассеяния, формируя направленное гамма-излучение. Устройство для генерации гамма-излучения содержит лазер оптического диапазона, накопительное кольцо или ускоритель со встречными пучками электронов и позитронов, средство реализации функции формирования импульсов электронного пучка, длительность которых достаточна для создания когерентного электронного пучка, и средство проецирования лазерного луча в направлении, противоположном направлению когерентного электронного пучка. Изобретение позволяют упростить процесс формирования мощного когерентного электронного пучка и генерации лазерного гамма-излучения. 5 н.п.ф-лы, 1 ил.
|
Поиск патентов
Получить полное описание патента