На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента
Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»
СВЕРХПРОВОДЯЩИЙ КВАНТОВЫЙ ИНТЕРФЕРЕНЦИОННЫЙ ДАТЧИК И СПОСОБ ЕГО ИЗГОТОВЛЕНИЯ | |
Номер публикации патента: 2133525 | |
Редакция МПК: | 6 | Основные коды МПК: | H01L039/22 H01L039/24 G01R033/035 | Аналоги изобретения: | SU 1785056 A1, 30.12.92. RU 2080693 C1, 27.05.97. RU 95104575 A1, 27.01.97. EP 0382609 A2, 16.08.90. EP 0493258 A2, 06.05.92. US 5367178 A, 22.11.94. |
Имя заявителя: | Омский государственный университет | Изобретатели: | Югай К.Н. Скутин А.А. Муравьев А.Б. Сычев С.А. Югай К.К. Лежнин И.В. | Патентообладатели: | Омский государственный университет |
Реферат | |
Использование: при разработке высокочувствительных сверхпроводящих датчиков магнитного потока и детекторов электромагнитного поля. Сущность изобретения: в сверхпроводящем квантовом интерференционном датчике, содержащем электроды и мостики из сверхпроводящего материала, электроды и мостики выполнены из монокристаллической эпитаксиальной сверхпроводящей пленки YВаСuО толщиной 10 - 25 нм. Электроды и мостики выполнены на изолирующей монокристаллической подложке из SrTiO3, LaAlO3, Al2O3. Для обеспечения лучшего контакта при включении датчика в схему и сохранения высокотемпературных сверхпроводящих свойств электроды выполнены на подслое из золота или платины. В способе изготовления сверхпроводящего интерференционного датчика, основанном на нанесении на изолирующую подложку сверхпроводящей пленки с последующим формированием из нее мостиков и электродов, на монокристаллическую подложку при температуре 820 - 840oС наносят сверхтонкую пленку YBaСuО толщиной 10 - 25 нм, например, методом лазерной абляции. Техническим результатом изобретения является создание сверхпроводящего квантового интерференционного датчика, обеспечивающего понижение шумов, повышение устойчивости к термоциклированию, а также повышение вопроизводимости характеристик датчика в процессе его эксплуатации. 2 с. и 5 з.п. ф-лы, 3 ил.
|