На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента
Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»
СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ВЫСОКОТЕМПЕРАТУРНОГО СВЕРХПРОВОДЯЩЕГО ПЕРЕХОДА ДЖОЗЕФСОНА | |
Номер публикации патента: 2107358 | |
Редакция МПК: | 6 | Основные коды МПК: | H01L039/24 | Аналоги изобретения: | 1. US, патент, 5366953, H 01 L 39/22, 22.11.94. 2. Сверхпроводимость: физика, химия, техника. 1993 г. т.6, N 8, стр.1730 - 1746. |
Имя заявителя: | Алаудинов Багомед Магомедович | Изобретатели: | Алаудинов Багомед Магомедович Ковьев Эрнст Константинович Куприянов Михаил Юрьевич Поляков Сергей Николаевич | Патентообладатели: | Алаудинов Багомед Магомедович Ковьев Эрнст Константинович Куприянов Михаил Юрьевич Поляков Сергей Николае |
Реферат | |
Изобретение относится к криогенной микроэлектронике и может быть использовано для изготовления электронных приборов и устройств, работающих в сверхвысокочастотном диапазоне частот, с уровнем собственных шумов, приближающимся к квантовому порогу, работа которых основана на явлении высокотемпературной сверхпроводимости и эффекте Джозефсона, с рабочей температурой вблизи температуры кипения жидкого азота и характеристиками, неуступающими характеристикам аналогов, работающих при температуре 4,2 К. Сущность: бикристалл выращивают из расплава лейкосапфира на двойную затравку, которую изготавливают из двух монокристаллических пластин треугольной формы, вырезанных из монокристаллического слитка лейкосапфира, после чего на боковых поверхностях каждой из пластин выполняют срез, плоскость которого шлифуют, химико-механически полируют и соединяют пластины между собой плоскостями среза в держателе, затем двойную затравку помещают в вакуум или атмосферу инертного газа при температуре плавления лейкосапфира, вводят двойную затравку в соприкосновение с расплавом лейкосапфира и производят наращивание бикристалла на двойную затравку, из которого после его охлаждения вырезают бикристаллическую подложку, причем после химико-механического полирования на поверхность подложки наносят буферный слой, на который затем напыляют эпитаксиальную высокотемпературную сверхпроводящую пленку. 1 табл., 2 ил.
|