Промышленная Сибирь Ярмарка Сибири Промышленность СФО Электронные торги НОУ-ХАУ Электронные магазины Карта сайта
 
Ника
Ника
 

Поиск патентов

Как искать?
Реферат
Название
Публикация
Регистрационный номер
Имя заявителя
Имя изобретателя
Имя патентообладателя

    





Оформить заказ и задать интересующие Вас вопросы Вы можете напрямую c 6-00 до 14-30 по московскому времени кроме сб, вс. whatsapp 8-950-950-9888

На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента

Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»


ИНФРАКРАСНЫЙ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫЙ ИЗЛУЧАТЕЛЬ

Номер публикации патента: 2025833

Вид документа: C1 
Страна публикации: RU 
Рег. номер заявки: 4930037 
  Сделать заказПолучить полное описание патента

Редакция МПК: 
Основные коды МПК: H01L033/00    
Аналоги изобретения: 1. Патент Франции N 2251104, кл. H 01L 33/00, 1975. 

Имя заявителя: Институт полупроводников АН УССР (UA) 
Изобретатели: Болгов Сергей Семенович[UA]
Яблоновский Евгений Иванович[UA]
Салюк Ольга Юрьевна[UA]
Константинов Вячеслав Михайлович[RU]
Игуменов Валерий Тимофеевич[RU]
Морозов Владимир Алексеевич[RU] 
Патентообладатели: Институт физики полупроводников АН Украины (UA) 

Реферат


Использование: изобретение относится к оптоэлектронике. Сущность изобретения: устройство содержит активный узкозонный слой с биполярной проводимостью, толщиной, сравнимой с диффузионной длиной, широкозонную подложку, просветляющей и фокусирующий слои. На активном слое выполнены омические контакты. На излучающей поверхности активного слоя сформирован легированный слой с концентрацией примеси ni где n - концентрация основных носителей в активном слое; ni - собственная концентрация носителей в активном слое; ε - диэлектрическая проницаемость активного слоя; m*@e - эффективная масса носителей в активном слое; μn1μp - подвижности электронов и дырок в активном слое. Толщина легированного слоя превышает величину Дебаевской длины экранирования, а степень несоответствия параметров кристаллических решеток материалов гетероструктуры не менне 5%. 1 ил.


Дирекция сайта "Промышленная Сибирь"
Россия, г.Омск, ул.Учебная, 199-Б, к.408А
Сайт открыт 01.11.2000
© 2000-2018 Промышленная Сибирь
Разработка дизайна сайта:
Дизайн-студия "RayStudio"