Промышленная Сибирь Ярмарка Сибири Промышленность СФО Электронные торги НОУ-ХАУ Электронные магазины Карта сайта
 
Ника
Ника
 

Поиск патентов

Как искать?
Реферат
Название
Публикация
Регистрационный номер
Имя заявителя
Имя изобретателя
Имя патентообладателя

    





Оформить заказ и задать интересующие Вас вопросы Вы можете напрямую c 6-00 до 14-30 по московскому времени кроме сб, вс. whatsapp 8-950-950-9888

На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента

Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»


СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ СОЛНЕЧНОГО ЭЛЕМЕНТА НА ОСНОВЕ БАРЬЕРА ШОТКИ

Номер публикации патента: 2355067

Вид документа: C1 
Страна публикации: RU 
Рег. номер заявки: 2007145621/28 
  Сделать заказПолучить полное описание патента

Редакция МПК: 
Основные коды МПК: H01L031/07    
Аналоги изобретения: US 4321099 A, 23.03.1982. US 4278830 A, 14.07.1981. US 4227943 A, 14.10.1980. SU 1838847 A3, 30.08.1993. SU 1810933 A1, 23.04.1993. 

Имя заявителя: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования Московский государственный институт электронной техники (технический университет) (RU) 
Изобретатели: Буздуган Алексей Анатольевич (RU)
Громов Дмитрий Геннадьевич (RU)
Редичев Евгений Николаевич (RU)
Гаврилов Сергей Александрович (RU)
Чулков Игорь Сергеевич (RU) 
Патентообладатели: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования Московский государственный институт электронной техники (технический университет) (RU) 

Реферат


Использование: энергетика, радио-, электронная промышленность, приборостроение, где используются автономные маломощные источники питания. В способе изготовления солнечного элемента с барьером Шотки, включающем осаждение на проводящую подложку или любую подложку с проводящим слоем базового слоя полупроводникового материала, рекристаллизацию указанного полупроводникового материала указанного базового слоя для повышения среднего размера зерна, осаждение активного слоя полупроводникового материала по


Дирекция сайта "Промышленная Сибирь"
Россия, г.Омск, ул.Учебная, 199-Б, к.408А
Сайт открыт 01.11.2000
© 2000-2018 Промышленная Сибирь
Разработка дизайна сайта:
Дизайн-студия "RayStudio"