Промышленная Сибирь Ярмарка Сибири Промышленность СФО Электронные торги НОУ-ХАУ Электронные магазины Карта сайта
 
Ника
Ника
 

Поиск патентов

Как искать?
Реферат
Название
Публикация
Регистрационный номер
Имя заявителя
Имя изобретателя
Имя патентообладателя

    





Оформить заказ и задать интересующие Вас вопросы Вы можете напрямую c 6-00 до 14-30 по московскому времени кроме сб, вс. whatsapp 8-950-950-9888

На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента

Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»


ДАТЧИК ИК ИЗЛУЧЕНИЯ

Номер публикации патента: 2083030

Вид документа: C1 
Страна публикации: RU 
Рег. номер заявки: 95111196 
  Сделать заказПолучить полное описание патента

Редакция МПК: 
Основные коды МПК: H01L031/0376    
Аналоги изобретения: 1. J.Piotrowsci. Recent advances in IR detector technology. Microelectron. J., vol. 23, N 4, pp. 305 - 313, 1992. 2. R.Wade, I.S. Melean. A review of availability of IR detectors. Pros. Src. photo - Opt. Instrum. Eng., vol. 1130, pp. 166 - 168, 1989. 3. Меден А., Шо М. Физика и применение аморфных полупроводников (пер. с агнл.) - М.: Мир, 1991. 4. Infrared sensor. Techno Jap. - 1989, v. 22, N 6, p. 87. 5. Mimura H., Hatanaka Y. Reversecurrent characteristics of hydrogenated amorphous silicon - crystalline silicon heterojuncftion. Jap. J. Appl. Phys. - 1987, v. 26, N 1, p. 60 - 65. 

Имя заявителя: Московский государственный институт электронной техники (технический университет) 
Изобретатели: Будагян Б.Г.
Айвазов А.А.
Шерченков А.А.
Филатова И.В. 
Патентообладатели: Московский государственный институт электронной техники (технический университет) 

Реферат


Использование: в качестве приемника излучения с избирательной чувствительностью в ИК-области при создании фоточувствительных устройств. Сущность изобретения: датчик содержит монокристаллическую кремниевую подложку p-типа проводимости с удельным сопротивлением более 20 Ом см, сформированный на ней слой из аморфного кремния n-типа проводимости толщиной от 1,6 до 2,0 мкм и омические контакты к ним. 2 ил.


Дирекция сайта "Промышленная Сибирь"
Россия, г.Омск, ул.Учебная, 199-Б, к.408А
Сайт открыт 01.11.2000
© 2000-2018 Промышленная Сибирь
Разработка дизайна сайта:
Дизайн-студия "RayStudio"