На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента
Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»
ВЕРТИКАЛЬНЫЙ МДП - ТРАНЗИСТОР ИНТЕГРАЛЬНОЙ СХЕМЫ | |
Номер публикации патента: 2108641 | |
Редакция МПК: | 6 | Основные коды МПК: | H01L029/78 | Аналоги изобретения: | 1. US, патент, 4419810, кл. H 01 L 21/265, 1983. 2. US, патент 4683643, кл. H 01 L 21/385, 1987. |
Имя заявителя: | Научно-производственный комплекс "Технологический центр" Московского института электронной техники | Изобретатели: | Сауров А.Н. | Патентообладатели: | Научно-производственный комплекс "Технологический центр" Московского института электронной техники |
Реферат | |
Использование: микроэлектроника, интегральные схемы большой степени интеграции. Сущность изобретения: вертикальный МДП транзистор интегральной схемы содержит полупроводниковую подложку первого типа проводимости со сформированной на ней полупроводниковой структурой, окруженной изолирующей областью и состоящей из верхней и нижней областей второго типа проводимости, являющимися соответственно областями истока и стока, и расположенной между ними подзатворной области первого типа проводимости. В структуре выполнена канавка, дно которой расположено в нижней области второго типа проводимости, на боковой поверхности канавки расположен изолированный затвор, а размеры канавки в плане меньше размеров структуры на удвоенную толщину проводника к области истока. Верхняя поверхность структуры углублена относительно изолирующей области на ведичину, не менее чем в 1,5 превышающую толщину проводника к области истока, проводник к области истока расположен на поверхности изолирующей области и совмещен с областью истока торцевой поверхностью, а проводник к области стока размещен на изолированной диэлектриком поверхности затвора и совмещен с областью стока на дне канавки. Стенки выполнены вертикальными. 2 ил.
|