Промышленная Сибирь Ярмарка Сибири Промышленность СФО Электронные торги НОУ-ХАУ Электронные магазины Карта сайта
 
Ника
Ника
 

Поиск патентов

Как искать?
Реферат
Название
Публикация
Регистрационный номер
Имя заявителя
Имя изобретателя
Имя патентообладателя

    





Оформить заказ и задать интересующие Вас вопросы Вы можете напрямую c 6-00 до 14-30 по московскому времени кроме сб, вс. whatsapp 8-950-950-9888

На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента

Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»


ИНТЕГРАЛЬНАЯ СХЕМА С ДВУМЯ ТИПАМИ МОП - ТРАНЗИСТОРОВ

Номер публикации патента: 2100874

Вид документа: C1 
Страна публикации: RU 
Рег. номер заявки: 94035815 
  Сделать заказПолучить полное описание патента

Редакция МПК: 
Основные коды МПК: H01L027/092    
Аналоги изобретения: 1. Зи С. Физика полупроводниковых приборов. Кн. 2. - М.: Мир, 1984, с. 70 - 78, рис. 53, 54, 58 и 59. 2. Технология СБИС /Под ред. С.Зи. Кн. 2. - М.: Мир, 1986, с. 207 - 212, рис. 11.12. 

Имя заявителя: Государственный научно-исследовательский институт физических проблем им.Ф.В.Лукина 
Изобретатели: Ракитин В.В. 
Патентообладатели: Государственный научно-исследовательский институт физических проблем им.Ф.В.Лукина 

Реферат


Использование:изобретение относится к полупроводниковой микро- и наноэлектронике и может быть использовано при создании интегральных схем с элементами субмикронных и нанометровых размеров. Сущность изобретения: предлагается в конструкции интегральных схем на полупроводниковой подложке, частично покрытой маскирующим слоем, последний выполнять в виде локальных областей, отделенных друг от друга определенной ширины зазорами, протяженными вдоль взаимно перпендикулярных направлений, которые в результате образуют односвязную область. В непокрытой маскирующим слоем части подложки - в зазорах между маскирующими областями - формируются все элементы интегральной схемы. Маскирующие области остаются свободными от проводников. Выбором толщины маски, большей ширины проводников, обеспечивается возможность независимого формирования двух взаимно перпендикулярных слоев проводников. 2 з. п. ф-лы, 2 ил.


Дирекция сайта "Промышленная Сибирь"
Россия, г.Омск, ул.Учебная, 199-Б, к.408А
Сайт открыт 01.11.2000
© 2000-2018 Промышленная Сибирь
Разработка дизайна сайта:
Дизайн-студия "RayStudio"