|
На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента
| УСТРОЙСТВО ДЛЯ ЖИДКОФАЗНОЙ ЭПИТАКСИИ МНОГОСЛОЙНЫХ ЭПИТАКСИАЛЬНЫХ СТРУКТУР |  |
Номер публикации патента: 95111194 |  |
| Вид документа: | A1 | | Страна публикации: | RU | | Рег. номер заявки: | 95111194 |
|
|
|
| Имя заявителя: | Московская государственная академия тонкой химической технологии им.М.В.Ломоносова | | Изобретатели: | Акчурин Р.Х.
Жегалин В.А.
Сахарова Т. |
Реферат | |
Изобретение относится к технологии полупроводников и может быть использовано для получения многослойных эпитаксиальных структур полупроводниковых материалов методом жидкофазной эпитаксии. Целью изобретения является обеспечение возможности создания многослойных гетероструктур с эпитаксиальными слоями субмикронной толщины. Указанная цель достигается тем, что устройство, включающее корпус, емкости для исходных и отработанных растворов-расплавов, поршни, ячейки для подложек, средства перемещения, систему каналов и отверстий для принудительной подачи и удаления растворов расплавов к поверхности подложек, дозирующую емкость, дополнительно содержит горизонтально расположенный в корпусе пакет плоскопараллельных пластин с возможностью их возвратно-поступательного движения относительно друг друга, емкости для исходных растворов расплавов расположены между пластинами, а ячейки для подложек и система каналов и отверстий в пластинах, при этом средство перемещения поршней снабжено пружиной.
|
Поиск патентов