Промышленная Сибирь Ярмарка Сибири Промышленность СФО Электронные торги НОУ-ХАУ Электронные магазины Карта сайта
 
Ника
Ника
 

Поиск патентов

Как искать?
Реферат
Название
Публикация
Регистрационный номер
Имя заявителя
Имя изобретателя
Имя патентообладателя

    





Оформить заказ и задать интересующие Вас вопросы Вы можете напрямую c 6-00 до 14-30 по московскому времени кроме сб, вс. whatsapp 8-950-950-9888

На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента

Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»


СПОСОБ КУЛОНОМЕТРИЧЕСКОГО ИЗМЕРЕНИЯ ЭЛЕКТРИЧЕСКИХ ПАРАМЕТРОВ НАНОСТРУКТУР ТРАНЗИСТОРА n - МОП В ТЕХНОЛОГИЯХ КМОП/КНС И КМОП/КНИ

Номер публикации патента: 2439745

Вид документа: C1 
Страна публикации: RU 
Рег. номер заявки: 2010142563/28 
  Сделать заказПолучить полное описание патента

Редакция МПК: 
Основные коды МПК: H01L021/66   B82B003/00    
Аналоги изобретения: RU 2133999 C1, 27.07.1999. US 7537940 B2, 26.05.2009. US 6346820 B1, 12.02.2002. JP 2007043124 A, 15.02.2007. JP 2006093597 A, 06.04.2006. 

Имя заявителя: Федеральное государственное унитарное предприятие федеральный научно-производственный центр "Научно-исследовательский институт измерительных систем им. Ю.Е. Седакова" (RU) 
Изобретатели: Кабальнов Юрий Аркадьевич (RU)
Качемцев Александр Николаевич (RU)
Киселев Владимир Константинович (RU) 
Патентообладатели: Федеральное государственное унитарное предприятие федеральный научно-производственный центр "Научно-исследовательский институт измерительных систем им. Ю.Е. Седакова" (RU) 

Реферат


Изобретение относится к измерительной технике. Технический результат изобретения - импульсное кулонометрическое измерение электрофизических параметров по результатам анализа переходных процессов при воздействии на тестовый МДП-конденсатор прямоугольного импульса напряжения при длительности цикла измерения менее 1 мс. Сущность изобретения: в способе измерения электрофизических параметров наноструктур транзистора n-МОП в технологиях КМОП/КНС и КМОП/КНИ путем подачи на затвор импульса напряжения прямоугольной формы положительной полярности длительностью зондирующего импульса , величиной импульса напряжения UP и контроля тока, протекающего через измерительный резистор RH, включенный последовательно между источником импульсного напряжения и затвором транзистора, включенного в режиме конденсатора структуры МДП, в состав тестового кристалла включают конденсатор МОП и фоторезистор с заданными конструктивами, величину сопротивления измерительного резистора RH ограничивают значением 75 кОм, длительность импульса напряжения ограничивают величиной от 6 до 10 мс, амплитуду импульса генератора выбирают из условий формирования на зависимости падения напряжения UR на измерительном резисторе во времени пяти характерных участков с амплитудой Ai и временем завершения формирования ti, а концентрацию носителей заряда в буферном слое, поверхностную концентрацию pS носителей заряда, объемную концентрацию носителей заряда и величину эффективной подвижности носителей заряда определяют из представленных соотношений. 4 з.п. ф-лы, 7 ил., 2 табл.
Дирекция сайта "Промышленная Сибирь"
Россия, г.Омск, ул.Учебная, 199-Б, к.408А
Сайт открыт 01.11.2000
© 2000-2018 Промышленная Сибирь
Разработка дизайна сайта:
Дизайн-студия "RayStudio"