Открытое акционерное общество "Научно-исследовательский институт полупроводникового машиностроения ОАО "НИИПМ" (RU)
Изобретатели:
Комаров Валерий Николаевич (RU) Комаров Николай Валерьевич (RU)
Патентообладатели:
Открытое акционерное общество "Научно-исследовательский институт полупроводникового машиностроения ОАО "НИИПМ" (RU)
Реферат
Изобретение относится к технике полупроводникового производства и может быть использовано при нанесении фоторезиста на полупроводниковые пластины, а также другие подложки в процессе выполнения операций фотолитографии. Сущность изобретения: устройство для нанесения фоторезиста на подложки, содержащее камеру для нанесения, подложкодержатель с приводом его вращения, установленный в ванне для нанесения фоторезиста, блок подачи фоторезиста с дозатором и соплом, соединенным с рабочей емкостью для фоторезиста, дополнительно снабжено блоком загрузки-выгрузки рабочей емкости с фоторезистом, блоком загрузки-выгрузки подложек, транспортером с носителем подложек, установленным на штанге держателя в камере для нанесения с возможностью вертикального и горизонтального перемещения, при этом блок загрузки-выгрузки рабочей емкости для фоторезиста содержит корпус с крышкой, на которой установлен кожух и подвижная платформа для размещения емкости, выполненные с внутренними полостями для заполнения буферной жидкостью, а в стенке кожуха выполнен патрубок для размещения датчика контроля количества фоторезиста в рабочей емкости, а на крышке корпуса закреплен заборник фоторезиста. Конструкция предложенного устройства обеспечивает повышение качества наносимого слоя фоторезиста, расширение технологических возможностей устройства, повышение надежности устройства и удобство обслуживания. 4 з.п. ф-лы, 15 ил.
Поиск патентов
Получить полное описание патента