Промышленная Сибирь Ярмарка Сибири Промышленность СФО Электронные торги НОУ-ХАУ Электронные магазины Карта сайта
 
Ника
Ника
 

Поиск патентов

Как искать?
Реферат
Название
Публикация
Регистрационный номер
Имя заявителя
Имя изобретателя
Имя патентообладателя

    





Оформить заказ и задать интересующие Вас вопросы Вы можете напрямую c 6-00 до 14-30 по московскому времени кроме сб, вс. whatsapp 8-950-950-9888

На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента

Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»


СПОСОБ ОБНАРУЖЕНИЯ СКРЫТЫХ ДЕФЕКТОВ МАТРИЧНЫХ ИЛИ ЛИНЕЙНЫХ МОП МУЛЬТИПЛЕКСОРОВ

Номер публикации патента: 2388110

Вид документа: C1 
Страна публикации: RU 
Рег. номер заявки: 2009105899/28 
  Сделать заказПолучить полное описание патента

Редакция МПК: 
Основные коды МПК: H01L021/66    
Аналоги изобретения: Low-Bias CTIA Multiplexer for 1024 Element InGaAs Line Sensors. Walter F. Kosonocky at all. SPIE, v.2226, 1994, p.152. RU 2005308 C1 30.12.1993. RU 2073254 C1, 10.02.1997. SU 1772772 A1, 30.10.1992. US 6275059 B1, 14.08.2001. US 2007216439 A1, 20.09.2007. US 2008/0054931 A1, 06.03.2008. US 6746883 B2, 08.06.2004. US 5642364 A, 24.06.1997. GB 2372629 A, 28.08.2002. 

Имя заявителя: Федеральное государственное унитарное предприятие "НПО "Орион" (RU) 
Изобретатели: Акимов Владимир Михайлович (RU)
Васильева Лариса Александровна (RU)
Климанов Евгений Алексеевич (RU)
Лисейкин Виктор Петрович (RU) 
Патентообладатели: Федеральное государственное унитарное предприятие "НПО "Орион" (RU) 

Реферат


Изобретение относится к области тестирования МОП мультиплексоров. Сущность изобретения: в способе обнаружения скрытых дефектов матричных или линейных МОП мультиплексоров на кремниевой пластине с годными МОП мультиплексорами вскрываются окна в защитном слое окисла к металлизированным площадкам истоков МОП транзисторов и подложке, наносят слой индия, формируют область индия, которая закорачивает все истоки МОП транзисторов на подложку, проводят контроль годных кристаллов с обнаружением скрытых дефектов. Изобретение обеспечивает упрощение технологии тестирования. 4 ил.
Дирекция сайта "Промышленная Сибирь"
Россия, г.Омск, ул.Учебная, 199-Б, к.408А
Сайт открыт 01.11.2000
© 2000-2018 Промышленная Сибирь
Разработка дизайна сайта:
Дизайн-студия "RayStudio"