|
На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента
Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»
| СПОСОБ (ВАРИАНТЫ) И СИСТЕМА (ВАРИАНТЫ) ДЛЯ ОБРАБОТКИ ПОДЛОЖЕК ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ ПРИБОРОВ |  |
Номер публикации патента: 2328794 |  |
| Редакция МПК: | 7 | | Основные коды МПК: | H01L021/306 | | Аналоги изобретения: | US 2002/125212 A1, 12.09.2002. US 5660642 A, 26.08.1997. WO 99/161109 A1, 01.04.1999. EP 0905746 A1, 31.03.1999. RU 2163408 C1, 20.02.2001. |
| Имя заявителя: | ЛАМ РИСЕРЧ КОРПОРЕЙШН (US) | | Изобретатели: | ВУДС Карл А. (US)
ГАРСИА Джеймс П. (US)
ДЕ-ЛАРИОС Джон М. (US)
РАВКИН Майкл (US)
РЕДЕКЕР Фред С. (US) | | Патентообладатели: | ЛАМ РИСЕРЧ КОРПОРЕЙШН (US) |
Реферат | |
Изобретение относится к способам изготовления полупроводниковых приборов и микросхем. Сущность изобретения: предложены способы и системы обработки подложек для полупроводниковых приборов с созданием мениска жидкости, перемещаемого с первой поверхности на расположенную рядом параллельную ей вторую поверхность.
|
Поиск патентов
Получить полное описание патента