Промышленная Сибирь Ярмарка Сибири Промышленность СФО Электронные торги НОУ-ХАУ Электронные магазины Карта сайта
 
Ника
Ника
 

Поиск патентов

Как искать?
Реферат
Название
Публикация
Регистрационный номер
Имя заявителя
Имя изобретателя
Имя патентообладателя

    





Оформить заказ и задать интересующие Вас вопросы Вы можете напрямую c 6-00 до 14-30 по московскому времени кроме сб, вс. whatsapp 8-950-950-9888

На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента

Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»


СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ НЕПЛАНАРНЫХ ЭПИТАКСИАЛЬНЫХ СТРУКТУР КРЕМНИЯ МЕТОДОМ ГАЗОФАЗНОЙ ЭПИТАКСИИ И УСТРОЙСТВО ДЛЯ ЕГО ОСУЩЕСТВЛЕНИЯ

Номер публикации патента: 2290717

Вид документа: C1 
Страна публикации: RU 
Рег. номер заявки: 2005120204/28 
  Сделать заказПолучить полное описание патента

Редакция МПК: 
Основные коды МПК: H01L021/20    
Аналоги изобретения: US 6211042 B1, 03.04.2001. RU 2053585 C1, 27.01.1996. RU 2173916 C1, 20.09.2001. RU 2163105 C1, 20.02.2001. WO 02/052653 A1, 04.07.2002. 

Имя заявителя: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Московский государственный институт стали и сплавов" (технологический университет) (RU),ФГУП "ГИРЕДМЕТ" (RU) 
Изобретатели: Кожитов Лев Васильевич (RU)
Митин Владимир Васильевич (RU)
Кондратенко Тимофей Тимофеевич (RU)
Чинаров Вячеслав Викторович (RU)
Гришко Анатолий Сергеевич (RU)
Симонова Татьяна Владимировна (RU)
Крапухин Всеволод Валерьевич (RU) 
Патентообладатели: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Московский государственный институт стали и сплавов" (технологический университет) (RU)
ФГУП "ГИРЕДМЕТ" (RU) 

Реферат


Изобретение относится к области электронной техники, в частности к технологии изготовления приборов микро- и силовой электроники с непланарной структурой. Техническим результатом изобретений является обеспечение возможности формирования непланарных эпитаксиальных структур кремния с однородным распределением электрофизических и структурных параметров: толщины слоя, удельного сопротивления, времени жизни носителей заряда и плотности дислокации по различным кристаллографическим направлениям.


Дирекция сайта "Промышленная Сибирь"
Россия, г.Омск, ул.Учебная, 199-Б, к.408А
Сайт открыт 01.11.2000
© 2000-2018 Промышленная Сибирь
Разработка дизайна сайта:
Дизайн-студия "RayStudio"