Промышленная Сибирь Ярмарка Сибири Промышленность СФО Электронные торги НОУ-ХАУ Электронные магазины Карта сайта
 
Ника
Ника
 

Поиск патентов

Как искать?
Реферат
Название
Публикация
Регистрационный номер
Имя заявителя
Имя изобретателя
Имя патентообладателя

    





Оформить заказ и задать интересующие Вас вопросы Вы можете напрямую c 6-00 до 14-30 по московскому времени кроме сб, вс. whatsapp 8-950-950-9888

На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента

Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»


СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ СВЕТОИЗЛУЧАЮЩЕЙ СТРУКТУРЫ НА КВАНТОВЫХ ТОЧКАХ И СВЕТОИЗЛУЧАЮЩАЯ СТРУКТУРА

Номер публикации патента: 2205468

Вид документа: C1 
Страна публикации: RU 
Рег. номер заявки: 2002118769/28 
  Сделать заказПолучить полное описание патента

Редакция МПК: 
Основные коды МПК: H01L021/20   H01S005/343    
Аналоги изобретения: A. E. Zhukov et al. Device characteristics of low-threshold quantum - dot Lasers, Selected topics in electronics and systems, v.16, Advances in semiconductor lasers and applications to optoelectronics. World Scientific, Singapore, 2000, p.263-292. US 6033972 А, 07.03.2000. US 5963571 А, 05.10.1999. ЕР 1113542 А1, 04.07.2001. RU 2176841 С1, 10.12.2001. RU 2147152 С1, 27.03.2000. 

Имя заявителя: Физико-технический институт им. А.Ф.Иоффе РАН 
Изобретатели: Устинов В.М.
Жуков А.Е.
Малеев Н.А.
Ковш А.Р. 
Патентообладатели: Физико-технический институт им. А.Ф.Иоффе РАН 

Реферат


Использование: при изготовлении из материалов А3В5 и соединений на их основе светоизлучающих структур на квантовых точках (КТ), в частности лазеров, работающих в инфракрасном диапазоне длин волн при комнатной температуре. Способ изготовления светоизлучающей структуры на КТ включает последовательное выращивание на подложке GaAs молекулярно-пучковой эпитаксией буферного слоя GaAs, нижнего эмиттерного слоя на основе соединения AlGaAs, волноводного слоя GaAs, содержащего активную область на основе КТ


Дирекция сайта "Промышленная Сибирь"
Россия, г.Омск, ул.Учебная, 199-Б, к.408А
Сайт открыт 01.11.2000
© 2000-2018 Промышленная Сибирь
Разработка дизайна сайта:
Дизайн-студия "RayStudio"