|
На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента
Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»
| СПОСОБ ФОРМИРОВАНИЯ ПЕРЕХОДНЫХ КОНТАКТНЫХ ОКОН |  |
Номер публикации патента: 2202136 |  |
| Редакция МПК: | 7 | | Основные коды МПК: | H01L021/308 | | Аналоги изобретения: | JP 6151388, 31.05.1994. JP 6037071, 10.02.1994. JP 10274854, 13.10.1998. JP 11340161, 10.12.1999. SU 1627000 А1, 20.10.1996. |
| Имя заявителя: | Акционерное общество открытого типа "НИИ молекулярной электроники и завод "Микрон" | | Изобретатели: | Алексеев Н.В.
Ячменев В.В.
Еременко А.Н.
Новиков А.В.
Колобова Л.А. | | Патентообладатели: | Акционерное общество открытого типа "НИИ молекулярной электроники и завод "Микрон" |
Реферат | |
Способ относится к области микроэлектроники, к технологии изготовления интегральных схем на этапе формирования многоуровневой металлической разводки. Сущность изобретения: для формирования наклонного профиля переходных окон в диэлектрике сформированная на его поверхности фоторезистивная маска подвергается термообработке при 140-160oС до получения наклонных стенок окон, а затем плазмохимическим травлением при соотношении скоростей травления диэлектрика и фоторезиста (1.
|
Поиск патентов
Получить полное описание патента