|
На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента
Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»
| АБРАЗИВ ИЗ ОКСИДА ЦЕРИЯ И СПОСОБ ПОЛИРОВАНИЯ ПОДЛОЖЕК |  |
Номер публикации патента: 2178599 |  |
| Редакция МПК: | 7 | | Основные коды МПК: | H01L021/304 | | Аналоги изобретения: | JP 08134435 A, 28.05.1996. JP 07263537 A, 13.10.1995. JP 07321077 А, 08.12.1995. ЕР 0266233 А1, 04.05.1988. ЕР 0411413 А1, 02.06.1991. ГОТРА З.Ю. Технология микроэлектронных устройств. Справочник. - М.: Радио и связь, 1991, с.78-86. |
| Имя заявителя: | ХИТАЧИ КЕМИКАЛ КАМПАНИ, ЛТД. (JP) | | Изобретатели: | ЙОШИДА Масато (JP)
АШИДЗАВА Тараносуке (JP)
ТЕРАСАКИ Хироки (JP)
КУРАТА Ясуши (JP)
МАЦУДЗАВА Дзюн (JP)
ТАННО Кийохито (JP)
ООТУКИ Юуто (JP) | | Патентообладатели: | ХИТАЧИ КЕМИКАЛ КАМПАНИ, ЛТД. (JP) | | Номер конвенционной заявки: | 08-258766 | | Страна приоритета: | JP | | Патентный поверенный: | Нилова Мария Иннокентьевна |
Реферат | |
Использование: технология микроэлектроники. Сущность изобретения: абразив из оксида церия содержит суспензию, которая включает частицы оксида церия со средним диаметром первичных частиц 30 - 250 нм и средним диаметром частиц в суспензии 150 - 600 нм. Указанные частицы оксида церия диспергированы в среде и имеют удельную площадь поверхности 7 - 45 м2/г, а структурный параметр Y, представляющий собой изотропную микродеформацию, определяемую при порошковом рентгеноструктурном анализе методом Ритвельта, для указанных частиц оксида церия имеет значение 0,01 - 0,70. Технический результат - обеспечение возможности полирования поверхности таких объектов, как изолирующие пленки диоксида кремния, при высокой скорости, не создавая на них царапин. 2 с. и 13 з. п. ф-лы.
|
Поиск патентов
Получить полное описание патента