Промышленная Сибирь Ярмарка Сибири Промышленность СФО Электронные торги НОУ-ХАУ Электронные магазины Карта сайта
 
Ника
Ника
 

Поиск патентов

Как искать?
Реферат
Название
Публикация
Регистрационный номер
Имя заявителя
Имя изобретателя
Имя патентообладателя

    





Оформить заказ и задать интересующие Вас вопросы Вы можете напрямую c 6-00 до 14-30 по московскому времени кроме сб, вс. whatsapp 8-950-950-9888

На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента

Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»


СПОСОБ ПРИСОЕДИНЕНИЯ КРЕМНИЕВОГО КРИСТАЛЛА К КРИСТАЛЛОДЕРЖАТЕЛЮ ПОЛУПРОВОДНИКОВОГО ПРИБОРА

Номер публикации патента: 2173913

Вид документа: C2 
Страна публикации: RU 
Рег. номер заявки: 99115689/28 
  Сделать заказПолучить полное описание патента

Редакция МПК: 
Основные коды МПК: H01L021/58    
Аналоги изобретения: МАЗЕЛЬ Е.З., ПРЕСС Ф.П. Планарная технология кремниевых приборов. - М.: Энергия, 1974, с.318-321. SU 1674293 A1, 30.08.1991. EP 0142692 A1, 29.05.1985. WO 82/02457 A1, 22.07.1982. 

Имя заявителя: Дагестанский государственный технический университет 
Изобретатели: Шахмаева А.Р.
Исмаилов Т.А.
Саркаров Т.Э.
Гаджиев Х.М. 
Патентообладатели: Дагестанский государственный технический университет 

Реферат


Изобретение относится к микроэлектронике и может быть использовано в производстве полупроводниковых приборов и интегральных схем. Техническим результатом изобретения является повышение надежности контакта кристалла с кристаллодержателем и стабильности процесса присоединения. Сущность способа: на обратную сторону кремниевой пластины наносят последовательно в едином технологическом цикле четыре металла хром-никель-олово-серебро. Разделяют пластину на кристаллы и производят пайку кристаллов к кристаллодержателю при 300-320°С в течение 2-5 с. Данное сочетание напыляемых слоев обеспечивает получение надежного контакта кристалла с кристаллодержателем, 100%-ное распределение припоя по поверхности кристалла, отсутствие пор в припое, улучшение выходных характеристик прибора.


Дирекция сайта "Промышленная Сибирь"
Россия, г.Омск, ул.Учебная, 199-Б, к.408А
Сайт открыт 01.11.2000
© 2000-2018 Промышленная Сибирь
Разработка дизайна сайта:
Дизайн-студия "RayStudio"