|
На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента
Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»
| СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ПОКРЫТИЯ ИЗ ФОТОРЕЗИСТА И УСТРОЙСТВО ДЛЯ ЕГО ОСУЩЕСТВЛЕНИЯ |  |
Номер публикации патента: 2158987 |  |
| Редакция МПК: | 7 | | Основные коды МПК: | H01L021/312 | | Аналоги изобретения: | RU 2093921 C1, 20.10.1997. SU 1632286 A3, 15.02.1994. SU 1329498 A1, 23.10.1990. RU 2094903 C1, 27.10.1997. US 5532192 A, 02.07.1996. EP 0789389 A2, 13.08.1997. |
| Имя заявителя: | Воронежская государственная технологическая академия | | Изобретатели: | Абрамов Г.В.
Битюков В.К.
Коваленко В.Б.
Попов Г.В. | | Патентообладатели: | Воронежская государственная технологическая академия |
Реферат | |
Использование: микроэлектроника, на литографических операциях при изготовлении полупроводниковых приборов и интегральных микросхем. Сущность изобретения: способ получения покрытия из фоторезиста включает нанесение на подложку дозы фоторезиста, формирование слоя и его предварительную подсушку. При этом подложка помещается на пневмовихревую воздушную прослойку, разгоняется до определенной скорости, на нее наносится доза фоторезиста, после сброса излишков фоторезиста воздух, используемый для создани
|
Поиск патентов
Получить полное описание патента