|
На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента
Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»
| СПОСОБ НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИЙ ЦЕНТРИФУГИРОВАНИЕМ |  |
Номер публикации патента: 2094903 |  |
| Редакция МПК: | 6 | | Основные коды МПК: | H01L021/312 | | Аналоги изобретения: | 1. Авторское свидетельство СССР N 1046803, кл. H 01 L 21/312, 1983. 2. Заявка Японии N 59-10612, кл. H 01 L 21/30, 1984. |
| Имя заявителя: | Воронежский технологический институт | | Изобретатели: | Абрамов Г.В.
Битюков В.К.
Попов Г.В.
Рыжков В.В. | | Патентообладатели: | Воронежская технологическая государственная академия |
Реферат | |
Использование: изобретение относится к полупроводниковому производству и может быть использовано при нанесении покрытий, например из фоторезиста, на пластины. Технической задачей изобретения является повышение равномерности слоя покрытия. Сущность изобретения: при формировании слоя фоторезиста наносят дозу раствора на вращающуюся со скоростью 5000-7000 об/мин пластину, а после полного покрытия раствором всей поверхности пластины в течение 10-15 с Формируют равномерный слой, изменяя скорость вращения пластины по закону: ω = A/t, где t - время с начала нанесения, ω - угловая скорость вращения пластины, A - экспериментальная константа, зависящая от физических свойств фоторезиста, вязкости и др. 2 ил., 1 табл.
|
Поиск патентов
Получить полное описание патента