На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента

Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»

Вернуться к списку

СПОСОБ ЛОКАЛЬНОГО ПЛАЗМОХИМИЧЕСКОГО ТРАВЛЕНИЯ МАТЕРИАЛА

Номер публикации патента: 2091904

Вид документа:  C1  Страна публикации:  RU  Рег. номер заявки:  95108003		Получить полное описание патента

Реферат

Использование: полупроводниковая электроника. Способ позволяет производить локальное плазмохимическое травление материала и получать при этом практически любую фигуру травления без использования маски. Сущность изобретения: способ предусматривает размещение материала между двумя электродами и образование области электрического разряда в газе между материалом и первым электродом подачей на электроды высокого напряжения. Локальность травления в предложенном способе обеспечивается тем, что размеры области электрического разряда в газе у поверхности материала малы и поэтому разряд контактирует лишь с частью его поверхности. Для этого, те размеры первого электрода, которые определяют размеры области разряда, должны быть меньшими, а давление газа должно быть большим тех их значений, при которых для данного расстояния между первым электродом и материалом разряд контактирует со всей поверхностью материала. Получаемая фигура травления с большой точностью повторяет форму той части поверхности первого электрода, через которую происходит электрический разряд в газе, если расстояние между первым электродом и материалом меньше 2 мм, а давление газа больше 10 мм рт.ст. 1 з.п. ф-лы, 6 ил.

Вернуться к списку