|
На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента
Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»
| РЕАКТОР ДЛЯ ОБРАБОТКИ ПОДЛОЖЕК В ПЛАЗМЕ СВЧ - ТЛЕЮЩЕГО РАЗРЯДА |  |
Номер публикации патента: 2073933 |  |
| Редакция МПК: | 6 | | Основные коды МПК: | H01L021/306 | | Аналоги изобретения: | 1. Патент США N 4138306, кл. B 44 C 1/22, 1979. 2. Патент США N 4160690, кл. H 01 L 21/302, 1979. |
| Имя заявителя: | Московский институт электронной техники | | Изобретатели: | Неустроев С.А. | | Патентообладатели: | Московский институт электронной техники |
Реферат | |
Использование: микроэлектроника, планарная технология интегральных схем. Сущность изобретения: реактор для обработки подложек в плазме СВЧ тлеющего разряда представляет собой вакуумную камеру, в которой помещены полый резонатор, рабочий столик, узлы подвода энергии, подачи реагентов и откачки продуктов реакции. В резонаторе от места ввода энергии в него на расстоянии, кратном полуволне, размещены два выступа, один из которых содержит полость с размещенным в ней рабочим столиком, а второй, противолежащий, имеет фасонную выемку. 1 ил.
|
Поиск патентов
Получить полное описание патента