|
На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента
Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»
| ИСТОЧНИК ПЛАЗМЫ ЭЦР - РАЗРЯДА |  |
Номер публикации патента: 2070357 |  |
| Редакция МПК: | 7 | | Основные коды МПК: | H05H001/46 H01L021/306 | | Аналоги изобретения: | 1. Geister M. et al. Elongated microwave electron cyclotron resonance heating plasma source. J. Vac. Sci Technologie. А 8 (2) Mar./ Apr. 1990, p.908. 2. Cooke M.J. et al. Multipolar ECR. Opening a new vange of lowdamage etch process. Microelectr. Manufacturing and Testing. - 1989, N10, p.17. |
| Имя заявителя: | Московский государственный институт электронной техники (технический университет) | | Изобретатели: | Ванин А.А.
Зотов С.В.
Кремеров М.А.
Малинов А.Ю. | | Патентообладатели: | Московский государственный институт электронной техники (технический университет) |
Реферат | |
Использование: для обработки подложек большой площади потоком ЭЦР-плазмы с целью осаждения тонких пленок, модификации поверхности, очистки или травления. Сущность изобретения: источник плазмы ЭЦР-разряда представляет собой расположенные вдоль стенки вакуумной камеры и параллельно друг другу СВЧ-антенны в виде стержней, которые с одного конца соединены через герметичные СВЧ-вводы с источником СВЧ-энергии, а с другого конца замкнуты на корпус вакуумной камеры.
|
Поиск патентов
Получить полное описание патента