|
На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента
Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»
| РЕАКТОР ДЛЯ ОБРАБОТКИ ПОДЛОЖЕК В ПЛАЗМЕ СВЧ - ТЛЕЮЩЕГО РАЗРЯДА |  |
Номер публикации патента: 2070349 |  |
| Редакция МПК: | 7 | | Основные коды МПК: | H01L021/306 | | Аналоги изобретения: | 1. Патент США N4101411, кл. C 23 G 15/00, 1977. 2. Патент Японии N53-44795, кл. H 01 L 21/302, 1978. |
| Имя заявителя: | Московский институт электронной техники | | Изобретатели: | Неустроев С.А. | | Патентообладатели: | Московский институт электронной техники |
Реферат | |
(57) Использование: реактор для обработки подложек в плазме СВЧ тлеющего разряда, обеспечивающий равномерное воздействие плазмы по обрабатываемой площади. Сущность изобретения: в конструкции реактора реализована схема четвертьволнового резонатора,нагруженного на емкость, которая образована рабочим столиком и противоэлектродом, закрепленным на конце центрального стержня.
|
Поиск патентов
Получить полное описание патента