Промышленная Сибирь Ярмарка Сибири Промышленность СФО Электронные торги НОУ-ХАУ Электронные магазины Карта сайта
 
Ника
Ника
 

Поиск патентов

Как искать?
Реферат
Название
Публикация
Регистрационный номер
Имя заявителя
Имя изобретателя
Имя патентообладателя

    





Оформить заказ и задать интересующие Вас вопросы Вы можете напрямую c 6-00 до 14-30 по московскому времени кроме сб, вс. whatsapp 8-950-950-9888

На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента

Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»


СПОСОБ КОНТРОЛЯ ТОЛЩИНЫ КРЕМНИЕВЫХ СЛОЕВ N - ТИПА ПРОВОДИМОСТИ НА ИЗОЛИРУЮЩИХ ПОДЛОЖКАХ

Номер публикации патента: 2063096

Вид документа: C1 
Страна публикации: RU 
Рег. номер заявки: 4829547 
  Сделать заказПолучить полное описание патента

Редакция МПК: 
Основные коды МПК: H01L021/66    
Аналоги изобретения: 1. Severin P.J. Measurent of the resistivity and thichness of a heterotype grown silicon layer with the spreading resistance methode. Physics Research Report , 1971, v. 26, N 5, p. 359-372. 2. Авторское свидетельство СССР N 1512420, кл. H 01 L 21/66, 1988. 

Имя заявителя: Научно-исследовательский институт прикладных физических проблем им.А.Н.Севченко (BY) 
Изобретатели: Варавин Владимир Афанасьевич[BY]
Казакевич Леонид Александрович[BY]
Лугаков Петр Федорович[BY]
Цикунов Александр Владимирович[BY] 
Патентообладатели: Варавин Владимир Афанасьевич (BY)
Казакевич Леонид Александрович (BY)
Лугаков Петр Федорович (BY)
Цикунов Александр Владимирович ( 

Реферат


Изобретение относится к области контроля толщины кремниевых слоев n-типа проводимости на изолирующих подложках. Кремниевый слой предварительно облучают гамма-квантами 60Со, после чего проводят термообработку подложки при температурах 500-750 К в течение времени от 5 до 10 минут, затем измеряют зависимость поверхностной концентрации носителей заряда в слое от температуры в диапазоне от 77 до 400 К, по которой затем определяют интервал температур ионизации дефектов структуры и расчетным путем определяют толщину исследуемых слоев. 1 ил., 1 табл.


Дирекция сайта "Промышленная Сибирь"
Россия, г.Омск, ул.Учебная, 199-Б, к.408А
Сайт открыт 01.11.2000
© 2000-2018 Промышленная Сибирь
Разработка дизайна сайта:
Дизайн-студия "RayStudio"