|
На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента
Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»
| СПОСОБ ИОННО - ПЛАЗМЕННОЙ ОБРАБОТКИ |  |
Номер публикации патента: 2053583 |  |
| Редакция МПК: | 7 | | Основные коды МПК: | H01L021/26 | | Аналоги изобретения: | 1. Заявка Японии N 59-129425, кл. H 01L 21/26, 1984. 2. Патент США N 4659449, кл. C 23F 1/02, 1987. |
| Имя заявителя: | Проектно-технологическое предприятие "Интра" (UA) | | Изобретатели: | Семенюк Валерий Федорович[UA] | | Патентообладатели: | Проектно-технологическое предприятие "Интра" (UA) |
Реферат | |
Использование: в электронной технике для прецизионного травления и осаждения материалов. Сущность изобретения: способ включает воздействие на обрабатываемое изделие химически активных нейтральных и заряженных частиц, инерцию которых осуществляют в физически разделенных пространствах. В пространстве генерации химически активных нейтральных частиц возбуждают электронную плазменную волну с частотой в области нижнегибридного резонанса и с продольной по отношению к магнитному полю фазовой скоростью, н
|
Поиск патентов
Получить полное описание патента