На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента
Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»
СПОСОБ ПЛАЗМЕННОГО ТРАВЛЕНИЯ ТОНКИХ ПЛЕНОК | |
Номер публикации патента: 2029411 | |
Редакция МПК: | 6 | Основные коды МПК: | H01L021/302 | Аналоги изобретения: | 1. Патент США N 4430138, кл. 156-345, 07.02.84. |
Имя заявителя: | Научно-производственная фирма "Плазматек" | Изобретатели: | Ходаченко Г.В. Фетисов И.К. Мозгрин Д.В. Шелыхманов Е.Ф. Галперин В.А. Невзоров П.И. | Патентообладатели: | Научно-производственная фирма "Плазматек" |
Реферат | |
Использование: в способе плазменного травления тонких пленок, применяемом в технологии производства изделий электронной техники БИС и СБИС для повышения производительности прецизионного травления путем увеличения скорости травления за счет повышения плотности ионного и нейтрального потока химически активных частиц. Сущность изобретения: способ включает загрузку подложек со сформированием на них пленками в реактор на подложко-держатель, создание в реакторе вакуума и напуск рабочей атмосферы до давления 10-2- 5 мм рт.ст. наложение магнитного поля с напряженностью 300 - 2000 Э, возбуждение плазмы с плотностью не менее 108 см-3, обработку подложек на подложкодержателе, находящемся либо под плавающим патенциалом, либо под напряжением смещения, причем на область плазмы подают по крайней мере один электрический импульс с амплитудой напряжения в пределах 500В - 3 кВ длительностью τ = 10-4 - 10-2 c . 5 з.п. ф-лы, 3 ил.
|