Промышленная Сибирь Ярмарка Сибири Промышленность СФО Электронные торги НОУ-ХАУ Электронные магазины Карта сайта
 
Ника
Ника
 

Поиск патентов

Как искать?
Реферат
Название
Публикация
Регистрационный номер
Имя заявителя
Имя изобретателя
Имя патентообладателя

    





Оформить заказ и задать интересующие Вас вопросы Вы можете напрямую c 6-00 до 14-30 по московскому времени кроме сб, вс. whatsapp 8-950-950-9888

На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента

Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»


СПОСОБ ОЧИСТКИ ИЗДЕЛИЙ, ПРЕИМУЩЕСТВЕННО ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ ПЛАСТИН

Номер публикации патента: 2024993

Вид документа: C1 
Страна публикации: RU 
Рег. номер заявки: 5048167 
  Сделать заказПолучить полное описание патента

Редакция МПК: 
Основные коды МПК: H01L021/312    
Аналоги изобретения: Патент США N 3900337, H 01L 21/312, опублик. 1975. 

Имя заявителя: Научно-исследовательский институт молекулярной электроники 
Изобретатели: Хаханина Т.И.
Красавина Л.З.
Клюева Т.Б.
Шмелева Т.Б.
Красников Г.Я.
Карбаинов Ю.А. 
Патентообладатели: Научно-исследовательский институт молекулярной электроники
Томский политехнический институ 

Реферат


Использование: изобретение может быть использовано в производстве полупроводниковой микроэлектроники. Сущность изобретения: способ обработки поверхности полупроводниковых пластин осуществляют в непрерывном цикле. Способ включает очистку полупроводниковых пластин в проточной емкости с моющим раствором на основе серной кислоты, а также очистку раствора и его активацию в электрохимической ячейке, в качестве моющего раствора используют 3 - 7 М 25 - 50% -ный раствор серной кислоты, при этом весь его объем, необходимый для осуществления непрерывного цикла, подают последовательно через катодную и анодную камеры электрохимической ячейки, подвергая его активации при плотности анодного тока 3-4,8 кА/м2 и напряжении на электродах 3,0 - 5,0 В, активированный моющий раствор подают в ванну для обработки полупроводниковых пластин, а весь отработанный раствор направляют для повторной активации и очистки в электрохимическую ячейку. 1 ил, 6 табл.


Дирекция сайта "Промышленная Сибирь"
Россия, г.Омск, ул.Учебная, 199-Б, к.408А
Сайт открыт 01.11.2000
© 2000-2018 Промышленная Сибирь
Разработка дизайна сайта:
Дизайн-студия "RayStudio"