На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента
Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»
СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ДИЭЛЕКТРИЧЕСКОГО СЛОЯ НА ПОДЛОЖКЕ ИЗ ФОСФИДА ИНДИЯ | |
Номер публикации патента: 2017269 | |
Редакция МПК: | 7 | Основные коды МПК: | H01L021/31 | Аналоги изобретения: | 1. Yamaduchi m., Ando K. Thermal oxidation of Jn Pand properties of oxide films. J.Appl. Phys, 1980, V.51, N 9, p.5007-5012. |
Имя заявителя: | Миттова Ирина Яковлевна,Пухова Виктория Владимировна,Сошников Игорь Михайлович,Безрядин Михаил Николаевич | Изобретатели: | Миттова И.Я. Пухова В.В. Сошников И.М. Безрядин М.Н. | Патентообладатели: | Миттова Ирина Яковлевна Пухова Виктория Владимировна Сошников Игорь Михайлович Безрядин Михаил Николаевич |
Реферат | |
Использование: микроэлектроника, получение диэлектрических покрытий на фосфиде индия. Сущность изобретения: для получения диэлектрического слоя на подложку из фосфида индия наносят пленку сульфида свинца толщиной 50 - 300 нм, затем формируют диэлектрическую пленку обработкой в потоке кислорода. Уменьшается плотность поверхностных состояний на границе раздела фосфид индия- диэлектрик.
|