

	Главная Патентный отдел Технологии Справочник ГРНТИ Прием Наши координаты Обратная связь

Поиск патентов

Оформить заказ и задать интересующие Вас вопросы Вы можете напрямую c 6-00 до 14-30 по московскому времени кроме сб, вс. whatsapp 8-950-950-9888

Патентный отдел

На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента

Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»

Вернуться к списку

ГАЗОВАЯ СМЕСЬ ДЛЯ СЕЛЕКТИВНОГО СУХОГО ТРАВЛЕНИЯ ДИЭЛЕКТРИЧЕСКИХ СЛОЕВ

Номер публикации патента: 1823714

Вид документа:	A1
Страна публикации:	SU
Рег. номер заявки:	4955092

Получить полное описание патента

Редакция МПК:	6
Основные коды МПК:	H01L021/306
Аналоги изобретения:	A.R. Reinberg et al. Plasma Processing. Electrochem. Soc. Pennington, New Jersey, 1982, v. 82-6, p. 198. R.N. Castellano. Profile Control in Plasma Etching of SiO<SB>2</SB> SST. May, 1984, p. 203-206.

Имя заявителя:	Научно-производственное объединение "Интеграл"
Изобретатели:	Цыбулько И.А. Клименков В.В. Красницкий В.Я. Турцевич А

Реферат

Использование: микроэлектроника, для формирования микрорисунка в диэлектрических слоях. Цель: повышение качества травления за счет уменьшения вероятности загрязнения поверхности нижележащего слоя. Сущность изобретения: газовая смесь для селективного сухого травления диэлектрических слоев содержит, об. %: гептафторпропан 15-50; кислород 2,6-11,0; гелий - остальное. 1 табл.

Вернуться к списку

Дирекция сайта "Промышленная Сибирь"
Россия, г.Омск, ул.Учебная, 199-Б, к.408А
Сайт открыт 01.11.2000
© 2000-2018 Промышленная Сибирь

Разработка дизайна сайта:
Дизайн-студия "RayStudio"