US 4954717 A, 04.09.1990. RU 2334261 C1, 20.08.2008. RU 2183040 C1, 27.05.2002. US 2011003279 A1, 06.01.2011. EP 1617290 A, 18.01.2006.
Имя заявителя:
Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Санкт-Петербургский государственный электротехнический университет "ЛЭТИ" (RU)
Изобретатели:
Марголин Владимир Игоревич (RU) Мамыкин Александр Иванович (RU) Потехин Максим Сергеевич (RU) Тупик Виктор Анатольевич (RU) Шелудько Виктор Николаевич (RU)
Патентообладатели:
Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Санкт-Петербургский государственный электротехнический университет "ЛЭТИ" (RU)
Реферат
Способ электронной литографии относится к способам нанесения рисунков в технологии изготовления полупроводниковых устройств. Способ реализуется путем переноса изображения с катода-маски электронами вторичной электронной эмиссии на резист, подложка которого соединена с анодом. Особенностью является то, что технологическую камеру заполняют рабочим газом, в прикатодной области создают тлеющий разряд за счет использования дополнительного электрода, электрически соединенного с анодом. При этом катод-маску выполняют из материалов с разными коэффициентами вторичной ионно-электронной эмиссии. Параметры тлеющего разряда выбирают из условия существования вторичной ионно-электронной эмиссии с обоих материалов катода-маски. Технический результат - повышение срока службы катода-маски. 1 з.п. ф-лы, 4 ил.
Поиск патентов
Получить полное описание патента