Промышленная Сибирь Ярмарка Сибири Промышленность СФО Электронные торги НОУ-ХАУ Электронные магазины Карта сайта
 
Ника
Ника
 

Поиск патентов

Как искать?
Реферат
Название
Публикация
Регистрационный номер
Имя заявителя
Имя изобретателя
Имя патентообладателя

    





Оформить заказ и задать интересующие Вас вопросы Вы можете напрямую c 6-00 до 14-30 по московскому времени кроме сб, вс. whatsapp 8-950-950-9888

На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента

Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»


ИОННЫЙ МИКРОПРОЕКТОР И СПОСОБ ЕГО НАСТРОЙКИ

Номер публикации патента: 2126188

Вид документа: C1 
Страна публикации: RU 
Рег. номер заявки: 97106994 
  Сделать заказПолучить полное описание патента

Редакция МПК: 
Основные коды МПК: H01J037/317   H01J027/02   C23C014/48    
Аналоги изобретения: US 4985634 15.01.91. SU 1677734 A1, 15.09.91. RU 2061775 C1, 27.05.96. US 5545902 A, 13.08.96. 

Имя заявителя: Закрытое акционерное общество "РИМОС" 
Изобретатели: Ячменев С.Н. 
Патентообладатели: Закрытое акционерное общество "РИМОС" 

Реферат


Изобретение относится к области электронной техники и может найти применение при изготовлении интегральных схем с большой информационной емкостью методом литографии, а также в других процессах прецизионной обработки поверхности материалов ионным лучом, например нанесение на субстрат рисунков с изменением в нем поверхностных свойств материалов, в частности изменение типа проводимости в полупроводниковых материалах путем внедрения легирующих ионов, изменение других физических свойств материала за счет внедрения одноименных и инородных ионов, создание на поверхности новых слоев в результате осаждения атомов вещества из окружающих паров облака под влиянием падающих ионов, удаление вещества с поверхности субстрата в результате его распыления. Техническим результатом предлагаемого изобретения является улучшение качества изображения за счет уменьшения аберраций, вносимых осветительным устройством. Результат достигается тем, что при настройке ионного микропроектора изменяют расходимость ионного пучка, создаваемого устройством создания ионного пучка, в плоскости метрологического шаблона - путем изменения напряжения питания на электростатической линзе осветительного устройства, входящей в оптическую систему ИМ, при этом измеряют дисторсию по окружности на рабочем поле мишени> расположенной а приемном блоке, при обнаружении окружности радиусом ro с нулевой дисторсией измеряют дисторсию на окружности с радиусом rm = 3/5 , по которой судят о настройке ИМ по допустимому значению дисторсии. 2 с.п. ф-лы, 8 ил.


Дирекция сайта "Промышленная Сибирь"
Россия, г.Омск, ул.Учебная, 199-Б, к.408А
Сайт открыт 01.11.2000
© 2000-2018 Промышленная Сибирь
Разработка дизайна сайта:
Дизайн-студия "RayStudio"