Промышленная Сибирь Ярмарка Сибири Промышленность СФО Электронные торги НОУ-ХАУ Электронные магазины Карта сайта
 
Ника
Ника
 

Поиск патентов

Как искать?
Реферат
Название
Публикация
Регистрационный номер
Имя заявителя
Имя изобретателя
Имя патентообладателя

    





Оформить заказ и задать интересующие Вас вопросы Вы можете напрямую c 6-00 до 14-30 по московскому времени кроме сб, вс. whatsapp 8-950-950-9888

На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента

Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»


ФЛЭШ ЭЛЕМЕНТ ПАМЯТИ ЭЛЕКТРИЧЕСКИ ПЕРЕПРОГРАММИРУЕМОГО ПОСТОЯННОГО ЗАПОМИНАЮЩЕГО УСТРОЙСТВА

Номер публикации патента: 2402083

Вид документа: C1 
Страна публикации: RU 
Рег. номер заявки: 2009118726/28 
  Сделать заказПолучить полное описание патента

Редакция МПК: 
Основные коды МПК: G11C014/00   B82B001/00    
Аналоги изобретения: RU 81593 U1, 20.03.2009. RU 79708 U1, 10.01.2009. RU 78005 U1, 10.11.2008. US 6977201 В2, 20.12.2005. 

Имя заявителя: Учреждение Российской академии наук Институт физики полупроводников им. А.В. Ржанова Сибирского отделения РАН (ИФП СО РАН) (RU) 
Изобретатели: Гриценко Владимир Алексеевич (RU) 
Патентообладатели: Учреждение Российской академии наук Институт физики полупроводников им. А.В. Ржанова Сибирского отделения РАН (ИФП СО РАН) (RU) 

Реферат


Изобретение относится к вычислительной технике, в частности к электрически перепрограммируемым постоянным запоминающим устройствам, сохраняющим информацию при отключенном питании. Сущность изобретения: флэш элемент памяти электрически перепрограммируемого постоянного запоминающего устройства содержит полупроводниковую подложку с выполненными в ней истоком и стоком, на которой между истоком и стоком выполнены последовательно туннельный слой, запоминающий слой и затвор. Запоминающий слой выполнен из диэлектрика с высокой концентрацией электронных и дырочных ловушек и значением диэлектрической проницаемости, превосходящим значение диэлектрической проницаемости нитрида кремния. Запоминающий слой может быть выполнен с использованием материала: TiO2, Та2О5, AlxTayOz, TaOxNy, HfO2, HfSiOxNy, HfOxNy, Er2O3, La2O3, ZrO2, ZrOxNy, ZrSiOx, Gd2O3, Y2O3, Al2O3, AlOxNy. Элемент памяти может быть снабжен блокирующим слоем между запоминающим слоем и затвором. Изобретение обеспечивает снижение напряжения (до 6 В) и времени записи/стирания информации (до 10 мкс). 5 з.п. ф-лы, 1 ил.

Дирекция сайта "Промышленная Сибирь"
Россия, г.Омск, ул.Учебная, 199-Б, к.408А
Сайт открыт 01.11.2000
© 2000-2018 Промышленная Сибирь
Разработка дизайна сайта:
Дизайн-студия "RayStudio"