|
На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента
Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»
| ЛИНИЯ ФОТОЛИТОГРАФИИ |  |
Номер публикации патента: 2201012 |  |
| Редакция МПК: | 7 | | Основные коды МПК: | H01L021/02 G05B015/02 | | Аналоги изобретения: | Журнал "Электронная промышленность", №7. - М.: Электроника, 1989, с.13-16. JP 07-244504 A, 19.09.1995. JP 08-031708 A, 02.02.1996. JP 05-326355 A, 10.12.1993. US 5517404 А, 14.05.1996. US 5663076 A, 02.09.1997. US 5600574 A, 04.02.1997. RU 2086039 C1, 27.07.1997. |
| Имя заявителя: | Воронежская государственная технологическая академия | | Изобретатели: | Абрамов Г.В.
Давыденко О.А.
Попов Г.В. | | Патентообладатели: | Воронежская государственная технологическая академия |
Реферат | |
Изобретение относится к области микроэлектроники. Предложена линия фотолитографии, включающая модуль загрузки пластин, модуль струйной очистки, модуль обработки парами ГМДС, модуль термостабилизации, модуль формирования фоторезистивной пленки, модуль термообработки, модуль выгрузки. Линия фотолитографии является переналаживаемой под конкретный технологический маршрут за счет того, что модули линии соединены с управляющей ЭВМ посредством кабельной системы, имеющей посадочные места с разъемами, кот
|
Поиск патентов
Получить полное описание патента