RU 2305918 C2, 10.09.2007. SU 1026564 A1, 15.02.1994. SU 1314881 A1, 15.11.1993. US 6426143 B1, 30.07.2002.
Имя заявителя:
Государственное образовательное учреждение Высшего профессионального образования "Томский государственный университет" (RU)
Изобретатели:
Гудымович Елена Никифоровна (RU) Иванов Олег Сергеевич (RU)
Патентообладатели:
Государственное образовательное учреждение Высшего профессионального образования "Томский государственный университет" (RU)
Реферат
Изобретение относится к области производства интегральных схем, основанной на переносе изображения фотолитографическим способом с использованием фотошаблонов. Согласно способу на очищенную поверхность стекла наносят светочувствительный слой позитивного фоторезиста. В указанном слое с помощью фотолитографии формируют окна размерами 5-10 мкм. Поверхность просушивают и наносят второй слой металлсодержащего полимера с соотношением компонентов (%) ПММА - 5,0; хлороформ - 93,4; Cu(CF3COO)2 - 1,6. Производят термический отжиг в электропечи в течение 3 часов при Т=600°С и удаляют продукты сгорания. Технический результат - простота изготовления и повышенная износоустойчивость. 1 табл., 3 ил.