|
На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента
Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»
| ФОТОРЕЗИСТНАЯ КОМПОЗИЦИЯ |  |
Номер публикации патента: 2199773 |  |
| Редакция МПК: | 7 | | Основные коды МПК: | G03F007/004 G03C001/72 C08G061/08 | | Аналоги изобретения: | EP 0789278 A, 13.08.1997. EP 0140319 A, 08.05.1985. US 1289237 A1, 20.04.1995. |
| Имя заявителя: | З БИ. ЭФ. ГУДРИЧ КАМПЭНИ (US),ИНТЭНЭШНЛ БИЗНЕС МЭШИНС КОПЭРЕЙШН (US) | | Изобретатели: | ГУДОЛ Брайен Л. (US)
ДЖАЯРАМАН Сайкумар (US)
ДИ ПЬЕТРО Ричард Энтони (US)
РОУДЕЗ Ларри Ф. (US)
УОЛЛОУ Томас (US)
ШИК Роберт Э. (US)
ЭЛАН Роберт Дэвид (US) | | Патентообладатели: | З БИ. ЭФ. ГУДРИЧ КАМПЭНИ (US)
ИНТЭНЭШНЛ БИЗНЕС МЭШИНС КОПЭРЕЙШН (US) |
Реферат | |
Изобретение относится к радиационно-чувствительной фоторезистной композиции. Описывается фоторезистная композиция, содержащая кислотный фотоинициатор, необязательно ингибитор растворения и сополимер, который содержит, по крайней мере, два вида повторяющихся полициклических звеньев, один из которых содержит боковую кислотно-лабильную группу, а другой содержит боковую полярную функциональную группу.
|
Поиск патентов
Получить полное описание патента