На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента
Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»
СУХОЙ ПЛЕНОЧНЫЙ ФОТОРЕЗИСТ | |
Номер публикации патента: 2190871 | |
Редакция МПК: | 7 | Основные коды МПК: | G03F007/037 | Аналоги изобретения: | GB 1549952 A, 08.09.1979. GB 1361298 A, 24.07.1974. EP 0642057 A1, 08.03.1995. EP 0849636 A, 24.06.1998. SU 7412280 A, 15.06.1980. |
Имя заявителя: | Российский химико-технологический университет им. Д.И.Менделеева | Изобретатели: | Цейтлин Г.М. Кузнецов И.В. | Патентообладатели: | Российский химико-технологический университет им. Д.И.Менделеева |
Реферат | |
Описывается сухой пленочный фоторезист, который используется для получения защитных селективных покрытий прецизионных печатных плат и гибридных интегральных схем. Сухой пленочный фоторезист водно-щелочного проявления содержит карбоксилсодержащий полимер, полярный олигомер - метакрилированную эпоксидную смолу на основе 4,4'-диокси-(2,2-дифенилпропана) с молекулярной массой 540-600 у.
|