|
На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента
Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»
| ФОТОПОЛИМЕРИЗУЮЩАЯСЯ КОМПОЗИЦИЯ |  |
Номер публикации патента: 2127444 |  |
| Редакция МПК: | 6 | | Основные коды МПК: | G03F007/031 G03F007/033 | | Аналоги изобретения: | Ефремова А.А. Разработка олигоэфиракрилатных композиций лазерного отверждения для стереолитографии. Автореферат диссерт. канд.техн.наук - Казань, 1996, 18 с. SU 1693585 A1, 1991. EP 046757 A3, 1993. EP 546560 A1, 1993. |
| Имя заявителя: | Быстров Сергей Геннадьевич | | Изобретатели: | Быстров С.Г.
Кодолов В.И.
Чиркова Е.И.
Бондарь Ю.В.
Бондарь А.Ю. | | Патентообладатели: | Быстров Сергей Геннадьевич
Кодолов Владимир Иванович
Чиркова Елена Ивановна
Бондарь Юрий Васильевич
Бондарь Андрей Юрьевич |
Реферат | |
Фотополимеризующаяся композиция для изготовления фотополимерных изделий методом стереолитографии без доступа воздуха на основе олигокарбонатдиметакрилата содержит триэтиленгликольдиметакрилат (ТГМ-З), медьорганическое соединение формулы 1, где n = 2, R = -(СН2-СН2-О)3-, ненасыщенный мономер - бутилметакрилат и фотоинициатор - 2,2-диметокси-2-фенилацетофенон. Достигается увеличение скорости отверждения композиции и уменьшение ее объемной усадки при отверждении, т.е. сокращение цикла изготовления деталей и улучшение их точностных характеристик.  2 ил., 1 табл.
|
Поиск патентов
Получить полное описание патента